SJT 31119-1994 掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法
|
ID： |
DE7506545FEF4EC38823D231F335D207 |
|
文件大小(MB)： |
0.25 |
|
页数： |
3 |
|
文件格式： |
|
|
日期： |
2024-7-28 |
|
购买： |
文本摘录（文本识别可能有误，但文件阅览显示及打印正常，pdf文件可进行文字搜索定位）：
SJ/T 31119-94,中华人民共和国电子行业标准,掩模对准曝光机完好要求和检查评定方法,1主题内容与适用范围,木标掂规定『掩模对准曝光机的完好要求和检查、评定方法,4标准适用于接触曝光以及同时具备接触曝光和接近曝光功能的掩模对准曝光机,2完好要求,2.1性能要求,2.1-1显微镜分辨率、焦深应符合下表规定,表1,曝 光显微 镜,分辨率分辨率优于焦 深,^1. 0 0.5 学8,>1.0.3,0 1.0 二12,〉3.0.5.0 2. 0 225,>5.0 4. 0 ^50,2,1-2曝光灯启辉性能应良好,在冷态情况下,必须在3次启动之内完成启辉,2.1- 3有效曝光光束直径应符合ド表规定,表2,基本尺寸(mm) 朝〇*5 ￠100 ￠125 馆50,“效曝光光束直径(mm) K6Q *5 部10 冲35 *6160,2.1.4 曝光光束在掩模版上的光强不均匀性,在配备有梯度滤色片时,应达到或优于±3% ；,未配备梯度滤色片时,应达到感优于±8%,2.1.5 定时曝光装置的控制时间可在〇」.99. 9s范围内选择。在6. 3.99. 9s内,定时曝光,装置的时间误差不大于5% ,时间重复性误差不大于2%,2-1-6曝光量积分装置的曝光量积分档次可在。-1.99. 9s范围选择。在6. 3.99. 9s内,曝,光な枳分装置的积分误是不大于±5% ,补偿误差不大于±5%,2-2传动系统,2. 2.1掩模对准曝光机进行掩模对准时,扫描部件及掩模版架在X、丫方向移动应灵活、平,ホ,中华人民共和国电子工业部1994 04-15批准 1994-06-01实施,sj/t 31119-94,2. 2- 2片架盒上下移动应灵活、平稳,升降累积误差不大于土。. 5mm,2.2.3全自动掩模对准曝光机的预对准度在X、Y方向应优于土0.15mm,半启动掩模对准曝,光机的预对准精度在X、Y方向优于士0. 30mm0,2.3电气系统,2.3.1电器性能良好、运行可靠,保护装置齐全、有效,2.3 -2线路完整,绝缭层无破裂,无漏电现象,2.4 安全防护,2. 4-1掩模对准曝光机的绝缘电阻不得小于2M,2.4 -2在1500V交流电压下,初级电路与机壳间应耐压Imin不被击穿和不产生放电,漏电,流不大于:!.0mA,2.4.3掩模对准曝光机应有明显的接地标志,2.5 维护保养,按SJ/T 31002—94《设备维护保养通则》执行,3检查、评定方法,3.1 检查方法,3.1.1 用目视法检查曝光灯的安装,在3天内检査曝光灯启辉性能10次,3.1-2用照度计测量掩模对准曝光机最大可曝光基片面积上的光强不均匀性。光强测量点如,图所示(图中中分别为50mm、75mm、100mm、125mm、:150mm)。试验数据按公式(1)处理,光强不均匀性测量点示意图,U = 士 浮铲义 !00% . (1),式中:U——所测直径范围内,光强不均匀性;,Em*——所测圆周四点及中心点5个位置中的最大光强值,mW/cm,Emm——所测圆周四点及中心点5个位置中的最小光强值,mW/cm",3.1-3将曝光时间分别调整到6. 3,10,16,25,40,63,80,99. 9S的位置上,在每ー设定时间,下,用最小计时量为O-Ols的电子秒表实测三次。按公式(2)计算定时系统的时间误差,Dt =区二. X 100% ⑵,￡〇,2,SJ/T 31119-94,式中:A——定时曝光装置设定时间为た的时间误差％;,ちー一一定时曝光设定曝光时间,S；,五ー各设定曝光时间下,三次实测曝光时间算术平均值,S,将曝光时间的设定值调整到10s和25s的位置上,分别开启10次,用最小计时量为0. 01S,的电子秒表实测曝光时间,用公式（3）计算曝光时间重复性误差,尺ー如^就义”〇% 〇）,式中:尺——定时曝光装置的时间重复性误差，%;,ts——10次测量中,实测的最长曝光时间,S;,-'10次测量中,实测的最短曝光时间,S；,レー 10次测量曝光时间的算术平均值,s；,3.1 -4升降片架盒,并用游标卡尺检测片架盒升降累积误差,3-1-5用自动击穿装置在soov直流电压下,测量初级电路与机壳间的绝缘阻,3-1-6用自动击穿装置测试耐压性能,初级电路与机壳在1500V交流电压下,Imin内不被,击穿,不产生放电现象,并从自动击穿装置上读取漏电流大小,3.2 评定方法,3. 2-1主要项目有2.1,2.2,2.3中各条及2.4.1,2.4.2条。其余为次要项目,3- 2-2主要项目有一项不符合要求,为不完好设备;次要项目有二项不符合要求,亦为不完好,设备,3. 2-3完好设备的维护保养,应达到优等设备标准,附加说明:,本标准由电子工业部经济运行与体制改革司提出〇,本标准由国营南光机器厂组织起草,本标准主要起草人:王洪波,3……
……